為了遏制中國發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)，美國開(kāi)始脅迫全球光刻機巨頭阿斯麥公司(ASML)對華禁售產(chǎn)品。

　　鈦媒體 App 7 月 7 日消息，據環(huán)球時(shí)報引述媒體報道稱(chēng)，美國官員正在游說(shuō)荷蘭當局，在禁止向中國出售最先進(jìn)的極紫外線(xiàn)光刻機(EUV)基礎上，進(jìn)一步將禁售范圍擴大到上一代技術(shù)深紫外線(xiàn)浸沒(méi)式(ArFi)DUV 光刻機的出口。

　　報道稱(chēng)，由于無(wú)法獲得荷蘭政府的出口許可，ASML 已經(jīng)無(wú)法向中國出口其最先進(jìn)、每臺售價(jià)約 1.6 億歐元的 EUV 光刻機。而美國此次針對的這些舊款 DUV 光刻機，可生產(chǎn) 7nm 及以上制程工藝芯片，是制造汽車(chē)、手機、計算機乃至機器人所需的某些非先進(jìn)芯片的最常用設備，在目前全球芯片短缺之際必不可少。如果美國脅迫成功，中芯國際和華虹半導體等中國芯片制造商可能會(huì )因此受到沉重打擊。

　　對此，7 月 6 日例行記者會(huì )上，中國外交部發(fā)言人趙立堅表示，這是美方濫用國家力量，倚仗技術(shù)霸權搞“脅迫外交”的又一例證，這也是典型的技術(shù)恐怖主義。在當前全球化背景下，對別國搞技術(shù)封鎖、技術(shù)脫鉤，這只會(huì )讓其他國家更加警醒，在技術(shù)上一味依靠美國行不通，也會(huì )促使各國加快實(shí)現科技自主自立自強。

　　受此消息影響，ASML 的美國存托憑證(ADR)跌幅高達 8.3%，為 2020 年 3 月以來(lái)最大盤(pán)中跌幅。但與此同時(shí)，限制進(jìn)口光刻機利好國產(chǎn)替代，周三相關(guān)半導體設備股出現大漲，拓荊科技 (Piotech)、沈陽(yáng)芯源 (Kingsemi)漲幅超 10%，中微公司、北方華創(chuàng )帶領(lǐng)滬深 300 大漲，科創(chuàng ) 50 (STAR50)指數則上漲了 2.3%。

　　截止發(fā)稿前，由于市場(chǎng)傳出美國考慮對中國半導體征稅，7 月 7 日開(kāi)盤(pán)，A股半導體板塊普跌，瑞芯微、大港股份、盛美上海跌5%，東微半導、易天股份、博通集成跌4%，斯達半導、中晶科技跌3%。

光刻機巨頭已成為半個(gè)美國公司

　　今年 4 月 20 日，荷蘭 ASML 公司發(fā)布財報，2022 年第一季度光刻機凈銷(xiāo)售額達 35.34 億歐元。其中，中國大陸市場(chǎng)的營(yíng)收占比達到 34%，超過(guò) 12 億歐元。

　　而這么亮眼的業(yè)績(jì)，主要歸功于 EUV 光刻機的貢獻。公司 CFO Roger Dassen 此前接受采訪(fǎng)，當被問(wèn)及美國半導體禁令對 ASML 業(yè)務(wù)有什么影響時(shí)，他表示，盡管美國對華禁售 EUV 光刻機，但 ASML 可以直接向中國出口 DUV 光刻機，無(wú)需美國的授權。

　　眾所周知，目前主流的光刻機主要有兩種：一種是極紫外線(xiàn) EUV 光刻機，用于 7nm 及以下的芯片光刻;另外一種是 DUV 光刻機，稱(chēng)之為深紫外線(xiàn)光刻機，主要用于 10-130nm 光刻機，只有 ASML 能生產(chǎn)。

　　DUV 光刻機又有兩大路線(xiàn)，其中一種就是 ASML 為代表的浸潤式光刻機，以水為介質(zhì)，采用 193nm 波長(cháng)的光線(xiàn)，在水中折射后，變成 132nm，而這種設備一次曝光可以生產(chǎn) 45-28nm 的芯片，價(jià)格比 EUV 便宜一半。

　　盡管 DUV 光刻機不是最先進(jìn)的，但在多重曝光的情況下，最高也能做到 10nm 制程，由于無(wú)需獲得美國出口許可證，相關(guān)產(chǎn)品一直正常給長(cháng)江存儲，上海華虹等廠(chǎng)商供貨。

　　所以，一旦美國推動(dòng) ASML 禁止對中國企業(yè)出售 DUV 光刻機，意味著(zhù)芯片代工廠(chǎng)的擴產(chǎn)之下無(wú)法獲得設備，包括部分車(chē)規級芯片及消費電子芯片，都將面臨受制于人的命運。同時(shí)，這也意味著(zhù)美國對中國芯片產(chǎn)業(yè)的全面圍堵已經(jīng)展開(kāi)。

　　實(shí)際上，企業(yè)都是以盈利為目的。媒體分析稱(chēng)，如果 ASML 被禁止對華出口 DUV，其收入可能會(huì )萎縮5%-10%。

　　那么，為什么 ASML 這樣一家光刻機巨頭企業(yè)，減少要屈服于美國的管制?根據中國科學(xué)院 ICAC，背后主要有三個(gè)原因：

　　1、美國在 DUV、EUV 技術(shù)方面滲入 ASML。1997 年，ASML 加入英特爾和美國政府牽頭成立的 EUV LLC 聯(lián)盟當中。該聯(lián)盟匯聚了美國頂尖的研究資源和芯片巨頭，包括 IBM、AMD、摩托羅拉等，集中數百位頂尖科學(xué)家，共同研究 EUV 光刻技術(shù)。隨后在 2007 年起，ASML 陸續收購美國 Brion、Cymer、HMI 等公司，增強了在光刻、光源、電子束檢測等方面的技術(shù)儲備，從而能夠開(kāi)展 EUV 技術(shù)攻克。

　　2、美國通過(guò) ASML 的上市公司身份入股。隨著(zhù)其在 DUV 時(shí)代取得成功，英特爾入股 ASML 疊加并購加速，2012 年，英特爾、三星、臺積電共同買(mǎi)入 ASML 23% 的股權，獲得了 ASML EUV 光刻機的優(yōu)先供貨權，成為了利益共同體。目前 ASML 的前三大股東均來(lái)自美國，合計掌握 ASML 近 30% 的股權，美國加速實(shí)現對 ASML 的資本和技術(shù)雙控制。

　　3、ASML 的 EUV 設備零部件受控于美國。截止 2020 年末，ASML 的 EUV 中有 90% 零部件來(lái)自進(jìn)口，而且根據 ASML 加入 EUV LLC 的承諾，美國零部件需占比 55% 以上，并接受定期審查。

　　所以這就是美國為什么能讓荷蘭對華禁售 DUV、EUV 光刻機的主要原因——ASML 的 EUV 光刻機的實(shí)際控制方是美國而非荷蘭。因此，ASML 也被行業(yè)稱(chēng)為“半個(gè)美國公司”。

　　實(shí)際上，美國要求荷蘭 ASML 禁止出售光刻機給中國芯片制造企業(yè)，始于前任總統特朗普時(shí)期。

　　2018 年開(kāi)始，美國就對荷蘭進(jìn)行游說(shuō)，并展開(kāi)強大攻勢，以阻撓荷蘭將芯片制造技術(shù)出售給中國。時(shí)任美國總統副國家安全事務(wù)助理還對荷蘭警告稱(chēng)，如果沒(méi)有美國的零部件，ASML 的設備就無(wú)法運轉，而美國白宮有權限制這些零部件向荷蘭出口。不久后，荷蘭就決定 ASML 的出口許可證不予續期，而之前計劃好向中芯國際出口的一臺價(jià)值 1.5 億美元的光刻機，至今也沒(méi)有發(fā)貨。

　　今年 5 月底至 6 月初，美國商務(wù)部副部長(cháng)唐·格雷夫斯在訪(fǎng)問(wèn)荷蘭和比利時(shí)期間討論供應鏈問(wèn)題時(shí)提出禁止對中國企業(yè)銷(xiāo)售 DUV 光刻機的要求。其間，唐·格雷夫斯還到訪(fǎng)了 ASML 位于荷蘭總部并會(huì )見(jiàn)了公司 CEO 彼得·溫寧克。

　　不過(guò)，此前溫寧克曾表明過(guò)態(tài)度：反對禁止向中國出口 DUV 光刻機。

　　報道還稱(chēng)，美國也在努力向日本施壓，要求 ASML 對手——日本尼康等企業(yè)停止向中國芯片制造企業(yè)交付光刻技術(shù)。

　　針對上述消息，美國商務(wù)部與荷蘭外交部均表示拒絕發(fā)表任何評論，ASML 和尼康兩家公司也都沒(méi)有做出實(shí)質(zhì)性的回應。

　　根據 ASML 計劃，2022 年該公司有望生產(chǎn) 55 臺 EUV 光刻設備，到 2023 年達到每年超過(guò) 60 臺，有望供應給英特爾、三星、臺積電等企業(yè)。

　　國產(chǎn)替代影響幾何?

　　2021 年，全球半導體行業(yè)總銷(xiāo)售額達 5500 億美元。其中，作為全球最大、發(fā)展最快的芯片半導體銷(xiāo)售市場(chǎng)，彭博數據顯示，過(guò)去 4 個(gè)季度，每個(gè)季度增長(cháng)最快的 20 家芯片產(chǎn)業(yè)公司中，平均有 19 家來(lái)自中國大陸。

　　在現代中美科技競爭背景下，“國產(chǎn)替代”已成為中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的象征。

　　“中國半導體股背后的邏輯，一直是國產(chǎn)替代進(jìn)口的設備和芯片，”杭州希言資產(chǎn)管理基金經(jīng)理石軍波接受媒體采訪(fǎng)時(shí)表示，即使技術(shù)可能不那么先進(jìn)，國內半導體企業(yè)依然在被美國迫使下發(fā)展，從而獲得更大的市場(chǎng)份額。

　　光刻機被稱(chēng)作“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，與航空發(fā)動(dòng)機并列，是人類(lèi)工業(yè)難度極限。而想要保證光刻機良好運轉，每個(gè)環(huán)節的成功率都要高達 99.99%，這是工程學(xué)上的巨大挑戰。

　　溫寧克曾表示，如果想打破 ASML 等國外企業(yè)制定的技術(shù)規則和壟斷優(yōu)勢，中國需要集體參與精密零部件的供應開(kāi)發(fā)。他認為中國目前不太可能獨立掌握頂級光刻技術(shù)。

　　對于國產(chǎn)光刻產(chǎn)業(yè)鏈，首先關(guān)注華為的投資布局。天眼查數據顯示，繼 2021 年 6 月，華為旗下的哈勃投資公司入股中科院微電子所控股、國內第一的 193nm ArF 準分子激光器光源系統企業(yè)“北京科益虹源”之后，今年 4 月，華為哈勃再度投資光源相關(guān)產(chǎn)業(yè)，入股光電模塊零部件公司“微源光子(深圳)科技”。

　　其次是企業(yè)的業(yè)績(jì)。7 月 5 日，國內刻蝕設備(光刻下游，溶解光刻膠部分金屬)廠(chǎng)商中微公司(688012.SH)發(fā)布 2022 年中報預告，公司預計今年二季度營(yíng)收 19.7 億元，同比增長(cháng) 47.1%。其中新增訂單下，營(yíng)收同比增長(cháng) 62% 至 30.6 億元。中微公司董事長(cháng)尹志堯透露，公司研發(fā)的等離子刻蝕設備已經(jīng)進(jìn)入客戶(hù) 5nm 生產(chǎn)線(xiàn)。該公司預計上半年扣非歸母凈利潤大增 630%。

　　最后是未來(lái)國產(chǎn)光刻行業(yè)的發(fā)展評估。方正證券發(fā)布研報稱(chēng)，光刻機作為前道工藝七大設備之首(光刻機、刻蝕機、鍍膜設備、量測設備、清洗機、離子注入機、其他設備)，價(jià)值含量極大，技術(shù)要求極高，在制造設備投資額中單項占比高達 23%。而目前，全球前道光刻機被 ASML、尼康、佳能所壟斷，當前實(shí)現光刻機的國產(chǎn)替代勢在必行，具有重大戰略意義。

　　“國產(chǎn)光刻機應從如下四個(gè)方面尋求突破，包括產(chǎn)業(yè)分工、科研投入、技術(shù)突破以及人才積累。”方正證券在報告中稱(chēng)，對于國內關(guān)注產(chǎn)業(yè)鏈，主要關(guān)注以下兩部分：

　　一是關(guān)注光刻機核心組件，包括負責整體集成的上海微電子、負責光源系統的科益虹源，負責物鏡系統的國望光學(xué)，負責曝光光學(xué)系統的國科精密，負責雙工作臺的華卓精科，負責浸沒(méi)系統的啟爾機電等;二是關(guān)注光刻配套設施發(fā)展，包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機缺陷檢測設備，涂膠顯影設備等。
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